เคลือบ PVD เกรด 1 ไททาเนียม Arc Target Ti เป้าหมาย Titanium Sputtering Target
เป้าหมายการสปัตเตอร์ไททาเนียมสแควร์บริสุทธิ์สูง 99.995% เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียมแบบวงกลม Ti
เป้าหมายสปัตเตอร์ไททาเนียม
การเคลือบ PVD เกรด 1 ไททาเนียมอาร์คเป้าหมาย Ti เป้าหมายไททาเนียมสปัตเตอร์เป้าหมาย
กำหนดเป้าหมายเป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์ MMO เคลือบไทเทเนียมแอโนด
| ★วัสดุ | |
| ไทเทเนียม | ก.1 |
| คำสำคัญ | เป้าหมายไทเทเนียม |
| เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม เป้าหมายเป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์ การเคลือบ MMO ไทเทเนียมแอโนด | |
| แอปพลิเคชัน: | |
| ◆จอแสดงผลคริสตัลเหลว, หน่วยความจำเลเซอร์, | |
| ◆ ตัวควบคุมอิเล็กทรอนิกส์สปัตเตอร์วัสดุฟิล์มบาง | |
| ◆ วงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์ | |
| ◆ แผงเซลล์แสงอาทิตย์ สื่อบันทึก | |
| ◆จอแบน เคลือบพื้นผิวชิ้นงาน ฯลฯ.. | |
| ความอดทน | +/-0.01mm |
| พื้นผิว | ขัด ทำความสะอาด ผิวกลึง CNC ดอง สว่าง |
| ขนาด | ตามคำขอของลูกค้า |
| เนื้อหา Ti (%) | 99.96% 99.98% 99.99% |
| ความหนาแน่น | 4.51g/cm3 |
| สี | ไททาเนียมสีเดิม |
| บริการ: CNC , เครื่องจักรกล , กลึง , กัด , ปั๊มขึ้นรูป , หล่อ , เจาะ , เจียร , เกลียว ฯลฯ | |
| ด้านการค้า | EXW, FOB, CIF |
| เงื่อนไขการชำระเงิน | ที/ที, แอล/ซี |
| การบรรจุ | กระดาษพลาสติกด้านใน, กล่องไม้อัดด้านนอก |
| ควบคุมคุณภาพ | รายงานการทดสอบอัลตราโซนิกและการทดสอบวัสดุ |
| เวลาจัดส่ง | 7-30 วัน |
| ขั้นต่ำ | ปริมาณการสั่งซื้อขนาดเล็กเป็นที่ยอมรับ |
| ประเภทธุรกิจ | ผู้ผลิต, การค้าต่างประเทศ |
เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและความหนาแน่นสูง ได้แก่:
เป้าหมายสปัตเตอร์ (ความบริสุทธิ์: 99.9% - 99.999%)
เป้าหมายไทเทเนียมไทเทเนียมสปัตเตอร์เป้าหมายใช้สำหรับจอแสดงผลคริสตัลเหลว หน่วยความจำเลเซอร์
ตัวควบคุมอิเล็กทรอนิกส์สปัตเตอร์วัสดุฟิล์มบาง, วงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์,
เซลล์แสงอาทิตย์ สื่อบันทึก หน้าจอระนาบ และการเคลือบพื้นผิวชิ้นงาน
ถาม: ทำไมถึงเลือกเรา?
A1: เรามีประสบการณ์ 14 ปีในการผลิตผลิตภัณฑ์ไทเทเนียม
A2: สั่งตัวอย่างเป็นที่ยอมรับ
A3: ราคาที่ต่ำกว่า คุณภาพดี และเวลาจัดส่งสั้น
A4: ใบเสนอราคาสามารถทำได้ภายใน 24 ชั่วโมง
A5: ใบรับรอง ISO9001:2015
A6: ให้เราวาดรูป ทำภาพวาดและไอเดียของคุณให้กลายเป็นจริง!
A7: จัดทำรายงานการตรวจสอบคุณภาพของบุคคลที่สาม
