Round Titanium Sputtering Target Forged CNC Machining

เป้าหมายไทเทเนียมแบบกำหนดเอง Titanium Round Target

เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูงและความหนาแน่นสูง ได้แก่:
เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม (ความบริสุทธิ์: 99.9% -99.999%)

โดยปกติเราจะจัดทำรายงานการตรวจสอบคุณภาพเช่นนี้พร้อมกับสินค้า

ซึ่งแสดงองค์ประกอบทางเคมีและคุณสมบัติทางกายภาพ

ถาม: ทำไมถึงเลือกเรา

A1: เรามีประสบการณ์ 14 ปีในการผลิตผลิตภัณฑ์ไททาเนียม

A2: สั่งตัวอย่างเป็นที่ยอมรับ

A3: ราคาที่ต่ำกว่า คุณภาพดี และเวลาจัดส่งสั้น

A4: ใบเสนอราคาสามารถทำได้ภายใน 24 ชั่วโมง

A5: ใบรับรอง ISO9001:2015

A6: ให้เราวาดรูป ทำภาพวาดและไอเดียของคุณให้กลายเป็นจริง!

A7: จัดทำรายงานการตรวจสอบคุณภาพของบุคคลที่สาม

การประมวลผลเป้าหมายไทเทเนียมต่างๆ สำหรับการเคลือบ:

เป้าหมายโลหะ: เป้าหมายทังสเตน เป้าหมายโมลิบดีนัม เป้าหมายแทนทาลัม เป้าหมายไนโอเบียม เป้าหมายเซอร์โคเนียม เป้าหมายโคบอลต์ เป้าหมายวาเนเดียม เป้าหมายทองแดง เป้าหมายแพลตตินัม เป้าหมายแฮฟเนียม เป้าหมายไนโอเบียม เป้าหมายอลูมิเนียม เป้าหมายเหล็ก เป้าหมายโครเมียม เป้าหมายโลหะผสมไทเทเนียมไนโอเบียม , เป้าหมายโลหะผสมไทเทเนียม - เซอร์โคเนียม, เป้าหมายโลหะผสมไทเทเนียม - ทังสเตน, เป้าหมายโลหะผสมไทเทเนียม - gui, เป้าหมายไทเทเนียม - อลูมิเนียม, เป้าหมายโลหะผสมนิกเกิล - โครเมียม, เป้าหมายโลหะผสมอลูมิเนียม - โครเมียม, เป้าหมายไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง, เป้าหมายไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูงพิเศษ, เป้าหมายนิกเกิลที่มีความบริสุทธิ์สูง, เป้าหมายแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง, วัสดุเป้าหมายโพลีซิลิคอน, เป้าหมายอลูมิเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ, (99.95%-99.999%),

การจัดประเภท: เป้าหมายการเคลือบไอออนหลายส่วน, เป้าหมายแบนไททาเนียม, เป้าหมายท่อหมุนไททาเนียม, แผ่นหลังเป้าหมายไททาเนียม, ท่อหลังเป้าหมายไททาเนียม

การใช้งาน: การเคลือบเครื่องมือ, การเคลือบตกแต่ง, อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์, อุตสาหกรรมจอแบน, พื้นที่เคลือบกระจก Low-E ขนาดใหญ่, เซมิคอนดักเตอร์, LCD, อุตสาหกรรมพลังงานแสงอาทิตย์, เลนส์, อุตสาหกรรมออปโตอิเล็กทรอนิกส์, เป้าหมายการเชื่อมเซรามิก, เป้าหมายการฉีดพ่น ฯลฯ

เป้าหมายการเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์:
เป้าหมายการเคลือบสปัตเตอร์โลหะ, เป้าหมายการสปัตเตอร์ไททาเนียม, เป้าหมายการเคลือบสปัตเตอร์โลหะผสม, เป้าหมายการเคลือบสปัตเตอร์เซรามิก, เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกโบไรด์, เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกคาร์ไบด์ เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกฟลูออไรด์ , เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกไนไตรด์ เป้าหมายเซรามิกออกไซด์ เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกเซเลไนด์ เซรามิคซิลิไซด์ เป้าหมายการสปัตเตอร์, เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกซัลไฟด์, เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกเทลลูไรด์, เป้าหมายเซรามิกอื่น ๆ วัสดุ, เป้าหมายเซรามิกซิลิกอนออกไซด์ที่เจือโครเมียม (Cr-SiO), เป้าหมายอินเดียมฟอสไฟด์ (InP), เป้าหมายตะกั่วอาร์เซไนด์ (PbAs), เป้าหมายอินเดียมอาร์เซไนด์ (InAs ).